现代生活的每个环节都得益于涂层或薄膜技术。无论是集成电路芯片上的阻挡层薄膜还是铝制饮料罐上的涂层，x射线是研发，低能x射线发生装置多少钱，产品过程控制和不可缺少的分析技术。作为纳米技术研究，x射线衍射(xrd)和附属技术被用于确定薄膜分子结构的性质。理学的技术和经验为涂层和薄膜测量提供各种无损分析解决方案。
x射线衍射仪分为单晶衍射仪和多晶衍射仪两种。单晶衍射仪的被测对象为单晶体试样，主要用于确定未知晶体材料的晶体结构。基本原理：在一粒单晶体中原子或原子团均是周期排列的。将x射线（如cu的kα辐射）射到一粒单晶体上会发生衍射，低能x射线发生装置价格，由对衍射线的分析可以解析出原子在晶体中的排列规律，低能x射线发生装置，也即解出晶体的结构。
给阴极加上一定的电流被加热时，便能放出热辐射电子。在数万伏特高压电场的作用下，这些电子被加速并轰击阳极（又被称为靶）。阳极靶面上受电子束轰击的焦点呈细长的矩形状（称线焦点或线焦斑），从射线出射窗中心射出的x射线与靶面的掠射角为3°-6°。从出射方向垂直焦斑长边的两个出射窗口观察，焦斑呈线状的称为线光源；从另外两个出射窗口观察，焦斑如点状称为点光源。在衍射仪每次安装管子时，必须辨别所使用x射线出射窗口是否为线焦点方向。此外，还要求测角仪相对于靶面平面要有适当的倾斜角。
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